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Silicon integrated circuits / edited by Dawon Kahng
(Applied solid state science : advances in materials and device research ; Supplement, 2)

データ種別 図書
出版情報 New York : Academic Press , 1981-1985
大きさ 3 v. : ill. ; 24 cm

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理工学部 電気系 pt. C 428.85||S9||3 882003027


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書誌ID BB00022183
本文言語 英語
内容注記 pt. A: Physics of the MOS transistor / John R. Brews
Nonvolatile memories / Yoshio Nishi and Hisakazu Iizuka
The properties of silicon-on-sapphire substrates, devices, and integrated circuits / Alfred C. Ipri
pt. B: Physics and chemistry of impurity diffusion and oxidation of silicon / Richard B. Fair
Silicon power field controlled devices and integrated circuits / B. Jayant Baliga
pt. C. Transient thermal processing of silicon / G.K. Celler and T.E. Seidel
Reactive ion-beam etching and plasma deposition techniques using electron cyclotron resonance plasmas / Seitaro Matsua
Physics of VLSI processing and process simulation / W. Fichtner
一般注記 Includes bibliographies and indexes
著者標目  Kahng, Dawon
件 名 LCSH:Metal oxide semiconductors
LCSH:Semiconductors storage devices
LCSH:Integrated circuits
分 類 LCC:TK7871.99.M44
DC19:621.381/71
巻冊次 pt. A ; ISBN:0120029545 RefWorks出力(各巻)
pt. B ; ISBN:012002957X RefWorks出力(各巻)
pt. C ; ISBN:012002960X RefWorks出力(各巻)
NCID BA00942956
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