ドライ プロセス オウヨウ ギジュツ : チョウビサイ ソシ ノ セイホウ
ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法 / 小林春洋〔ほか〕著
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版情報 | 東京 : 日刊工業新聞社 , 1984.7 |
| 大きさ | 199,6p ; 22cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 | 文庫区分 | 教員指定/教員執筆/多読 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ラーネッド記念図書館 第3開架 |
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549.8||K19 | 850014163 |
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書誌詳細を非表示
| 書誌ID | BB00586852 |
|---|---|
| 本文言語 | 日本語 |
| 著者標目 | 小林, 春洋(1925-) <コバヤシ, ハルヒロ> |
| 件 名 | NDLSH:電子部品 NDLSH:薄膜 NDLSH:印刷回路 |
| 分 類 | NDC8:549.8 NDLC:ND354 |
| 巻冊次 | ISBN:4526017442 ; PRICE:3300円 RefWorks出力（各巻） |
| NCID | BN00036182 |
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