シュウセキ カイロ プロセス ギジュツ シリーズ
集積回路プロセス技術シリーズ
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 産業図書 |
| 大きさ | 冊 |
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| 1 | 半導体プラズマプロセス技術 / 菅野卓雄編著 東京 : 産業図書 , 1980.7 |
| 2 | 半導体イオン注入技術 / 蒲生健次編著 東京 : 産業図書 , 1986.7 |
| 3 | 半導体リソグラフィ技術 / 鳳紘一郎編著 東京 : 産業図書 , 1984.7 |
| 4 | 半導体エピタキシー技術 / 河東田隆著 東京 : 産業図書 , 1982.10 |
| 5 | SOI構造形成技術 / 古川静二郎編著 東京 : 産業図書 , 1987.10 |
| 6 | プロセス・デバイス・シミュレーション技術 / 壇良編著 東京 : 産業図書 , 1988.3 |
| 7 | 半導体評価技術 / 河東田隆編著 ; 奥村次徳 [ほか] 執筆 東京 : 産業図書 , 1989.2 |
| 8 | 半導体ドライエッチング技術 / 徳山巍編著 東京 : 産業図書 , 1992.10 |
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| 書誌ID | BB00613644 |
|---|---|
| 本文言語 | 日本語 |
| 著者標目 | 菅野, 卓雄(1931-) <スガノ, タクオ> |
| NCID | BN00597860 |
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