アタラシイ レジスト ザイリョウ ト ナノテクノロジー
新しいレジスト材料とナノテクノロジー
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : シーエムシー出版 |
| 出版年 | 2002.9 |
| 大きさ | vi,253p ; 27cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 | 文庫区分 | 教員指定/教員執筆/多読 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ラーネッド記念図書館 第3開架 |
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549.7||Y9594 | 039202085 |
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書誌詳細を非表示
| 書誌ID | BB00558424 |
|---|---|
| 本文言語 | 日本語 |
| 別書名 | 標題紙タイトル:New polymer resist and nano technology |
| 一般注記 | 監修: 山岡亞夫 |
| 著者標目 | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:ナノテクノロジー |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
| 巻冊次 | ISBN:4882313677 ; PRICE:65000円+税 RefWorks出力（各巻） |
| NCID | BA59535465 |
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