セッチャク ト セキソウ
接着と積層 / 井上幸彦 [ほか] 編
(高分子工学講座 / 高分子学会編 ; 9)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 地人書館 |
| 出版年 | 1965.7 |
| 大きさ | 2, 2, 2, 224p ; 22cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 | 文庫区分 | 教員指定/教員執筆/多読 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ラーネッド記念図書館 第3開架 |
|
578||K||9 | 650804012 |
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書誌詳細を非表示
| 書誌ID | BB00747510 |
|---|---|
| 本文言語 | 日本語 |
| 著者標目 | 井上, 幸彦 共編 <イノウエ, ユキヒコ> 高分子学会 <コウブンシ ガッカイ> |
| 件 名 | NDLSH:高分子化学工業 |
| 巻冊次 | PRICE:1300円 RefWorks出力（各巻） |
| NCID | BN03989062 |
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