プロセス ノ キソ
プロセスの基礎 / 西沢潤一編
(半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 20 . 超LSI技術 ; 7)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
| 出版年 | 1983.8 |
| 大きさ | 394p ; 27cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 | 文庫区分 | 教員指定/教員執筆/多読 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ラーネッド記念図書館 第3開架 |
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549.8||H8||20 | 920006443 |
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| 理工学部 電気系 |
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549.8||H8||20 | 932005552 |
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書誌詳細を非表示
| 書誌ID | BB00593677 |
|---|---|
| 本文言語 | 日本語 |
| 一般注記 | 各章末:参考文献 |
| 著者標目 | 西沢, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ> |
| 件 名 | NDLSH:半導体 |
| 分 類 | NDC8:549 NDLC:ND371 |
| 巻冊次 | ISBN:4769310323 ; PRICE:16000円 RefWorks出力（各巻） |
| NCID | BN00282815 |
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