ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク
入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
| 出版年 | 2006.12 |
| 大きさ | 323p, 図版[3]p : 挿図 ; 21cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 | 文庫区分 | 教員指定/教員執筆/多読 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ラーネッド記念図書館 第3開架 |
|
549.7||T9321 | 069253204 |
|
|
|
書誌詳細を非表示
| 書誌ID | BB10209037 |
|---|---|
| 本文言語 | 日本語 |
| 別書名 | 標題紙タイトル:Introduction to photomask technology 異なりアクセスタイトル:フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク |
| 一般注記 | 参考文献: 各章末 |
| 著者標目 | 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ> 竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ> 法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ> |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
| 巻冊次 | ISBN:4769312598 ; PRICE:3800円+税 RefWorks出力（各巻） |
| NCID | BA79886837 |
目次・あらすじ
類似資料
この資料の利用統計
このページへのアクセス回数：2回
※2020年8月16日以降
全貸出数：16回
(1年以内の貸出：0回)
※2000年4月1日以降