シリコン ウェーハ ノ センジョウ ト ブンセキ = Surface cleaning and analysis for silicon wafer
シリコンウェーハの洗浄と分析 = Surface cleaning and analysis for silicon wafer / 島ノ江憲剛 [ほか]著
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : リアライズ社 |
| 出版年 | 1998.4 |
| 大きさ | 5, 165p ; 30cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 | 文庫区分 | 教員指定/教員執筆/多読 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 理工学部 電気系 |
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549.8||S456 | 986100121 |
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書誌詳細を非表示
| 書誌ID | BB00388622 |
|---|---|
| 本文言語 | 日本語 |
| 一般注記 | 監修: 島ノ江憲剛 その他の執筆者: 上村賢一, 森良弘, 大塚進 各章末: 参考文献 |
| 著者標目 | 島ノ江, 憲剛 <シマノエ, ノリタケ> |
| 件 名 | NDLSH:シリコン(半導体) |
| 分 類 | NDC8:549.8 NDLC:ND371 |
| 巻冊次 | ISBN:4898080057 ; PRICE:34000円 RefWorks出力（各巻） |
| NCID | BA36477610 |
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