Plasma chemical processing / David M. Benenson and Emil Pfender, editors ; J.D. Chase ... [et al.]
(AIChE symposium series ; no. 186, v. 75)
データ種別 | 図書 |
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出版者 | New York : American Institute of Chemical Engineers |
出版年 | 1979 |
大きさ | v, 92 p. : ill. ; 28 cm |
所蔵情報を非表示
配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 | 文庫区分 | 教員指定/教員執筆/多読 | 仮想書架 |
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理工学部 化学系 |
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571||A326||186 | 840206148 |
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書誌詳細を非表示
書誌ID | BB00171931 |
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本文言語 | 英語 |
一般注記 | "Comprises the majority of the papers presented during four sessions on Plasma Chemical Processing at the 82nd National Meeting of the AIChE in Atlantic City, N.J., from August 29 to September 1, 1976."--Foreword Includes bibliographical references |
著者標目 | Benenson, David M. Pfender, Emil, 1925- Chase, J. D. American Institute of Chemical Engineers |
件 名 | LCSH:Plasma chemistry -- Industrial applications -- Congresses 全ての件名で検索 |
分 類 | LCC:TP156.P5 DC:660/.04/4 |
NCID | BA13618134 |
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