カトウダ, タカシ
河東田, 隆(1944-)
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| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 出生地等 | 東京 |
| 一般注記 | 東京大学工学部教授 工学博士 出生地の追加は著書「レーザーラマン分光法による半導体の評価」(1988,東京大学出版会)の奥付より。 EDSRC:ガリウムヒ素 / 生駒俊明, 河東田隆, 長谷川文夫著(丸善, 1988.1):奥付(著者の現職:河東田隆:東京大学工学部境界領域研究施設助教授) |
| 生没年等 | 1944 |
| コード類 | 典拠ID=AU00043657 NCID=DA00880833 |
| 1 | デバイスプロセス / 河東田隆著 東京 : 培風館 , 1993.1 |
| 2 | 半導体評価技術 / 河東田隆編著 ; 奥村次徳 [ほか] 執筆 東京 : 産業図書 , 1989.2 |
| 3 | レーザラマン分光法による半導体の評価 / 河東田隆著 東京 : 東京大学出版会 , 1988.4 |
| 4 | ガリウムヒ素 / 生駒俊明, 河東田隆, 長谷川文夫著 東京 : 丸善 , 1988.1 |
| 5 | 半導体結晶 : エレクトロニクスをささえる技術 / 河東田隆著 東京 : 丸善 , 1987.12 |
| 6 | 半導体エピタキシー技術 / 河東田隆著 東京 : 産業図書 , 1982.10 |