アサマキ, タツオ
麻蒔, 立男(1934-)
著者名典拠詳細を非表示
| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 出生地等 | 愛知県 |
| 一般注記 | 日本バリアン(株)勤務→東京理科大学嘱託教授, 日本真空協会評議員(2001.9現在) NDL著者名典拠録による PLACEの追加は著書「真空のはなし」(1991,日刊工業新聞社)奥付の記述より 経歴の追加は「超微細加工の基礎 : 電子デバイスプロセス技術」(日刊工業新聞社, 2001.9)による |
| 生没年等 | 1934 |
| コード類 | 典拠ID=AU00043107 NCID=DA00869433 |
| 1 | 薄膜作成の基礎 / 麻蒔立男著 第4版. - 東京 : 日刊工業新聞社 , 2005.7 |
| 2 | トコトンやさしい薄膜の本 / 麻蒔立男著 東京 : 日刊工業新聞社 , 2002.8 |
| 3 | 超微細加工の基礎 : 電子デバイスプロセス技術 / 麻蒔立男著 第2版. - 東京 : 日刊工業新聞社 , 2001.9 |
| 4 | やさしい電気磁気学 / 麻蒔立男著 東京 : 日刊工業新聞社 , 1999.3 |
| 5 | 薄膜作成の基礎 / 麻蒔立男著 第3版. - 東京 : 日刊工業新聞社 , 1996.3 |
| 6 | 超微細加工の基礎 : 半導体製造技術 / 麻蒔立男著 東京 : 日刊工業新聞社 , 1993.3 |
| 7 | 真空のはなし / 麻蒔立男著 第2版. - 東京 : 日刊工業新聞社 , 1991.12 |
| 8 | 薄膜作成の基礎 / 麻蒔立男著 第2版. - 東京 : 日刊工業新聞社 , 1984.7 |
| 9 | 真空のはなし / 麻蒔立男著 東京 : 日刊工業新聞社 , 1981.10 |
| 10 | 薄膜作成の基礎 / 麻蒔立男著 東京 : 日刊工業新聞社 , 1980 |
| 11 | 薄膜作成の基礎 / 麻蒔立男著 東京 : 日刊工業新聞社 , 1977.1 |