ニシザワ, ジュンイチ
西澤, 潤一(1926-)
著者名典拠詳細を非表示
| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 出生地等 | 仙台 |
| 一般注記 | 東北大学名誉教授, 日本学士院会員 財団法人半導体研究振興会常務理事, 1979 出生地の追加は共編書「日本の半導体開発」(1993,工業調査会)のカバーの記述より。 闘う独創技術 / 西沢潤一, 猿賀俊文著(日刊工業新聞社, 1986.8) |
| 生没年等 | 1926 |
| 別名 | 西沢, 潤一<ニシザワ, ジュンイチ> Nishizawa, Jun'ichi Nisizawa, Zyun'iti |
| コード類 | 典拠ID=AU00005580 NCID=DA00235944 |
| 1 | 環境・資源・エネルギー問題解決のための独創エネルギー工学 / 西澤潤一編著 東京 : 講談社 , 2008.1 |
| 2 | 戦略的独創開発 / 西澤潤一著 東京 : 工業調査会 , 2006.4 |
| 3 | 今、教育の原点を問う / 諏訪春雄責任編集 ; 西沢潤一 [ほか著] 東京 : 勉誠出版 , 2005.11 |
| 4 | 家庭教育の再生 / 林道義編著 東京 : 学事出版 , 2005.9 |
| 5 | 人類は80年で滅亡する / 西澤潤一, 上◆D5290◆勛黄著 東京 : 東洋経済新報社 , 2000.2 |
| 6 | なぜ完全結晶を追究するのか : 結晶の制御からオプトエレクトロニクスへ / 西澤潤一, 餌取章男著 東京 : 三田出版会 , 1996.7 |
| 7 | 教育の目的再考 / 西澤潤一著 東京 : 岩波書店 , 1996.4 |
| 8 | 光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著 東京 : 工業調査会 , 1994.3 |
| 9 | 日本の半導体開発 : 劇的発展を支えたパイオニア25人の証言 / 西澤潤一, 大内淳義共編 東京 : 工業調査会 , 1993.3 |
| 10 | 私のロマンと科学 / 西澤潤一著 東京 : 中央公論社 , 1990.3 |
| 11 | 半導体のおはなし / 西沢潤一著 東京 : 日本規格協会 , 1990.3 |
| 12 | 独創は闘いにあり / 西沢潤一著 東京 : 新潮社 , 1989.2 |
| 13 | 発光ダイオードとその応用 / 西澤潤一監修 ; スタンレー電気技術研究所編 ; 小山稔, 奥野保男, 柏原鳳一郎執筆 東京 : 産業図書 , 1988.4 |
| 14 | デバイスとプロセス / 西澤潤一編 [その1] - その14. - 東京 : 工業調査会 , 1987.8- |
| 15 | 化合物半導体の結晶成長と評価 / 西澤潤一編 [その1] - その8. - 東京 : 工業調査会 , 1986.8- |
| 16 | 超LSI回路とプロセス / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1986.8 |
| 17 | 西澤潤一の独創開発論 / 西澤潤一著 東京 : 工業調査会 , 1986.2 |
| 18 | 愚直一徹 : 私の履歴書 / 西沢潤一著 東京 : 日本経済新聞社 , 1985.10 |
| 19 | 化合物半導体の結晶成長と完全性 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1985.8 |
| 20 | プロセスの低温化 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1985.3 |
| 21 | プロセスの基礎 / 西沢潤一編 東京 : 工業調査会 , 1983.8 |
| 22 | LSIの将来技術 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1982.5 |
| 23 | プロセス評価 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1981.6 |
| 24 | 電子工学基礎論 / 西沢潤一, 須藤建著 東京 : 丸善 , 1980.9 |
| 25 | 半導体プロセス / 西澤潤一編 [その1],その2,その3. - 東京 : 工業調査会 , 1979.8-1985.8 |
| 26 | 回路設計 / 西澤潤一編著 東京 : 工業調査会 , 1978.4 |
| 27 | オプトエレクトロニクス / 西澤潤一著 東京 : 共立出版 , 1977.8 |
| 28 | 半導体装置 / 西沢潤一著 東京 : 近代科学社 , 1961.3 |
| 29 | 半導体工学シリーズ / 西澤潤一編 東京 : 培風館 |
| 30 | 電気・電子・情報工学基礎講座 / 清水洋 [ほか] 編集 東京 : 朝倉書店 |