モリヤ, トシオ
森屋, 利夫(1953-)
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著者の属性 | 個人 |
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出生地等 | 横浜 |
一般注記 | SRC:エアブラシの技法百科 / マイケル・リーク著 ; 森屋利夫訳(グラフィック社, 1994.1) EDSRC:箱の本 / エドワード・デニソン & リチャード・コースレイ著 ; マルコム・ロバートソン写真(エーアンドピーコーディネータージャパン, 1999.4): 奥付(1953年横浜生まれ.1980年翻訳所設立.) |
生没年等 | 1953 |
コード類 | 典拠ID=AU00318610 NCID=DA10207016 |
1 | デザインにおける写真処理 / ピーター・ボニッチ, リンダ・プラウド編著 ; 森屋利夫訳 改訂第2版. - 東京 : ビー・エヌ・エヌ新社 , 2003.12 |