マエダ, カズオ
前田, 和夫(1935-)
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| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 一般注記 | アプライドマテリアルズジャパン(株)センター長 専攻:半導体プロセス技術,気相成長技術 《同名》 |
| 生没年等 | 1935- |
| コード類 | 典拠ID=AU00080926 NCID=DA01624690 |
| 1 | はじめての半導体ナノプロセス / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 2004.2 |
| 2 | はじめての半導体プロセス / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 2000.12 |
| 3 | はじめての半導体製造装置 / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 1999.3 |
| 4 | VLSIとCVD : 半導体デバイスへのCVD技術の応用 / 前田和夫著 東京 : 槙書店 , 1997.7 |
| 5 | VLSIプロセス装置ハンドブック / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 1990.6 |
| 6 | 最新LSIプロセス技術 / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 1983.7 |